形状测量激光显微系统

VK-X3000 系列

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形状测量激光显微系统 VK-X3000 系列

全新

搭载白光干涉功能
纳米/微米/毫米一台即可完成测量

超越激光显微镜的限制,以三重扫描方式应对

  • 一台即可测量纳米/ 微米/ 毫米
  • 一台即可了解希望获取的信息

VK-X3000 系列 - 形状测量激光显微系统

采用了三重扫描方式,运用激光共聚焦、白光干涉、聚焦变化等三种不同的扫描原理,无论是高倍率还是低倍率,无论是平面、凹凸还是表面细微粗糙度,无论是镜面体还是透明体,拥有应对各种样品的测量能力(从1nm到50mm),纳米/微米/毫米一台即可完成测量。

产品特性

Basic Characteristics

观察

从光学显微镜到SEM领域一台设备涵盖

  • 42 至 28800 倍
  • 无需对焦
  • 适用于多种样品

测量

非接触瞬间扫描形状

  • 不会损伤目标物
  • 纳米级别也可准确测量
  • 透明体和坡度大的目标物也可测量

分析

希望了解的表面“差异”一目了然

  • 定量化微小形状
  • 轻松比较多个样品
  • 粗糙度分析

三重扫描方式
解决“难以测量”的难题

白光干涉 / 激光共聚焦 / 聚焦变化

可根据样品工件的材料、形状和测量范围,选择激光共聚焦、白光干涉、聚焦变化等三种不同的扫描原理,进行高精度测量。

最高分辨率0.01 nm

即使是纳米级的微小形状变化也能准确测量。
此外,如镜面体、透明体等测量难度高的材料也能实现高速、高精度、大范围的测量。

连高度差较大的凹凸处
和大范围区域也能测量

最大扫描区域50 mm见方。
凹凸不平或手掌大小的物体也能整体扫描。
只需一台设备,即可同时掌握整体形状和局部形状。

无论是高倍率还是低倍率。无论是平面还是凹凸面。

适用于各种目标物的测量能力